Mașină de gravat cu fascicul de ioni
Descriere
Gravarea cu fascicul de ioni (IBE) este o tehnică de film subțire care utilizează o sursă de ioni pentru a efectua procese de îndepărtare a materialului pe un substrat. IBE este un tip de pulverizare cu fascicule ionice și, indiferent dacă este utilizat pentru gravarea pre-curățată sau modelată, ajută la asigurarea unei aderențe excelente și formarea precisă a structurilor 3D.
Această mașină este o soluție de echipament de gravare fizică la scară nanometrică extrem de colimată, de înaltă precizie și foarte fiabilă.
Acceptă acuratețea lățimii nanofirelor și gravarea modelului cu raport de aspect înalt cu mai multe tipuri, nelimitat de tipul de material, gravarea cu colimare ridicată, rata mare de gravare și repetabilitate bună.
Aplicație
Rețele plane, rețele speciale de suprafață mare, componente de difracție DOE, dispozitive MEMS, circuite cu peliculă subțire, dispozitive integrate fotonice
Caracteristici
- Sursa de ioni a componentei de bază este controlabilă independent.
- Compatibil cu IBE și RIBE, cu moduri de lucru opționale.
- Potrivit pentru gravarea de înaltă precizie a diferitelor materiale, cu o dimensiune a lățimii liniei de până la 20 nm.
- Capacitate bună de proces și fiabilitate a producției.
- Pereții de jos și laterali ai grătarului SiO/Si sunt drepti.
- Permite controlarea independentă a energiei fasciculului și a fluxului de ioni.
- Procesul are loc într-un mediu de lucru cu presiune scăzută.
- Produce gravare anizotropă controlată.
- Oferă mijloace pentru ca toate materialele cunoscute să fie gravate.
- Permite controlul profilului în unghi datorită unui unghi variabil al fasciculului de gravare în raport cu suprafața probei/mască.
- Permite controlul profilului/peretelui lateral și modelarea caracteristicilor.
- Capacitățile gazului reactiv permit viteze de gravare mai mari și gravarea cu selectivitate mai mare a diferitelor materiale prin specii reactive.
Parametri tehnici
|
Dimensiunea substratului gravabil |
6 inci |
|
Uniformitate gravare |
±5% |
|
Material gravabil |
SiO2, SiNx, Safir, diamant, niobat de litiu, oxid de metal etc. |
|
Gaze disponibile |
N2, O2, Ar, pe bază de fluor sau amestec de gaz |
|
Sursa de ioni RF |
Putere FR: 1KW, Energia fasciculului ionic: 1000eV, curent al fasciculului ionic: 1000mA |
Tag-uri populare: mașină de gravare cu fascicule ionice, producători de mașini de gravare cu fascicule ionice din China, fabrică

